Optesch Konstruktioun huet eng breet Palette vun Uwendungen am Beräich vun den Hallefleeder. An enger Photolithographiemaschinn ass den optesche System verantwortlech fir de Liichtstrahl, deen vun der Liichtquell ausgestraalt gëtt, ze fokusséieren an en op de Siliziumwafer ze projizéieren, fir de Schaltungsmuster ze beliichten. Dofir ass den Design an d'Optimiséierung vun optesche Komponenten am Photolithographiesystem e wichtege Wee fir d'Leeschtung vun der Photolithographiemaschinn ze verbesseren. Déi folgend sinn e puer vun den optesche Komponenten, déi a Photolithographiemaschinne benotzt ginn:
Projektiounsobjektiv
01 D'Projektiounsobjektiv ass eng wichteg optesch Komponent an enger Lithographiemaschinn a besteet normalerweis aus enger Serie vu Lënsen, dorënner konvex Lënsen, konkav Lënsen a Prismen.
02 Seng Funktioun ass et, de Schaltungsmuster op der Mask ze schrumpfen an en op de mat Photoresist beschichtete Wafer ze fokusséieren.
03 D'Genauegkeet an d'Leeschtung vum Projektiounsobjektiv hunn en entscheedenden Afloss op d'Opléisung an d'Bildqualitéit vun der Lithographiemaschinn.
Spigel
01 Spigelengi benotzt fir d'Richtung vum Liicht z'änneren an et op déi richteg Plaz ze riichten.
02 Bei EUV-Lithographiemaschinne si Spigelen besonnesch wichteg, well EUV-Liicht liicht vu Materialien absorbéiert gëtt, dofir musse Spigelen mat héijer Reflexiounsfäegkeet benotzt ginn.
03 D'Uewerflächengenauegkeet an d'Stabilitéit vum Reflekter hunn och e groussen Afloss op d'Leeschtung vun der Lithographiemaschinn.
Filteren
01 Filter gi benotzt fir ongewollt Wellelängte vum Liicht ze entfernen, wat d'Genauegkeet an d'Qualitéit vum Photolithographieprozess verbessert.
02 Duerch d'Auswiel vum passenden Filter kann séchergestallt ginn, datt nëmme Liicht vun enger spezifescher Wellelängt an d'Lithographiemaschinn kënnt, wouduerch d'Genauegkeet an d'Stabilitéit vum Lithographieprozess verbessert ginn.
Prismen an aner Komponenten
Zousätzlech kann d'Lithographiemaschinn och aner optesch Hëllefskomponenten, wéi Prismen, Polarisatoren, etc., benotzen, fir spezifesch Ufuerderunge vun der Lithographie ze erfëllen. D'Auswiel, den Design an d'Fabrikatioun vun dësen optesche Komponenten mussen déi relevant technesch Normen an Ufuerderunge strikt respektéieren, fir déi héich Präzisioun an Effizienz vun der Lithographiemaschinn ze garantéieren.
Zesummegefaasst zielt d'Uwendung vun optesche Komponenten am Beräich vun de Lithographiemaschinnen drop of, d'Leeschtung an d'Produktiounseffizienz vun de Lithographiemaschinnen ze verbesseren an doduerch d'Entwécklung vun der Mikroelektronikindustrie z'ënnerstëtzen. Mat der kontinuéierlecher Entwécklung vun der Lithographietechnologie wäert d'Optimiséierung an d'Innovatioun vun optesche Komponenten och e gréissert Potenzial fir d'Produktioun vu Chips vun der nächster Generatioun bidden.
Fir méi Informatiounen an Expertentipps, besicht eis Websäit ophttps://www.jiujonoptics.com/fir méi iwwer eis Produkter a Léisungen ze léieren.
Zäitpunkt vun der Verëffentlechung: 02.01.2025
