Optesch Design huet eng breet Palette vun Uwendungen am Halbleiterfeld. An enger Photolithographiemaschinn ass den opteschen System verantwortlech fir de Liichtstrahl ze fokusséieren, dee vun der Liichtquell emittéiert gëtt an et op de Siliziumwafer ze projizéieren fir de Circuitmuster auszesetzen. Dofir ass den Design an d'Optimiséierung vun opteschen Komponenten am Photolithographiesystem e wichtege Wee fir d'Performance vun der Photolithographiemaschinn ze verbesseren. Déi folgend sinn e puer vun den opteschen Komponenten, déi a Photolithographiemaschinne benotzt ginn:
Projektioun Objektiv
01 D'Projektiounsobjektiv ass e Schlëssel opteschen Komponent an enger Lithographie Maschinn, normalerweis besteet aus enger Serie vu Lënsen dorënner konvex Lënsen, konkave Lënsen, a Prismen.
02 Seng Funktioun ass de Circuitmuster op der Mask ze schrumpfen an et op de Wafer mat Photoresist ze fokusséieren.
03 D'Genauegkeet an d'Leeschtung vum Projektiounsobjektiv hunn en entscheedende Afloss op d'Resolutioun an d'Bildqualitéit vun der Lithographiemaschinn
Spigel
01 Spigelengi benotzt fir d'Richtung vum Liicht z'änneren an op déi richteg Plaz ze riichten.
02 Bei EUV Lithographiemaschinne si Spigelen besonnesch wichteg, well EUV Liicht liicht vu Materialien absorbéiert gëtt, dofir musse Spigelen mat héijer Reflexivitéit benotzt ginn.
03 D'Uewerflächengenauegkeet an d'Stabilitéit vum Reflektor hunn och e groussen Impakt op d'Leeschtung vun der Lithographiemaschinn.
Filteren
01 Filtere gi benotzt fir ongewollte Wellelängten vum Liicht ze läschen, d'Genauegkeet an d'Qualitéit vum Photolithographieprozess ze verbesseren.
02 Andeems Dir de passende Filter auswielen, kann et gesuergt ginn datt nëmmen d'Liicht vun enger spezifescher Wellelängt an d'Lithographiemaschinn erakënnt, an doduerch d'Genauegkeet an d'Stabilitéit vum Lithographieprozess verbessert.
Prismen an aner Komponenten
Zousätzlech kann d'Lithographiemaschinn och aner optesch Hilfskomponenten benotzen, wéi Prismen, Polarisatoren, asw., fir spezifesch Lithographiefuerderunge gerecht ze ginn. D'Auswiel, den Design an d'Fabrikatioun vun dësen opteschen Komponenten muss strikt déi relevant technesch Normen an Ufuerderunge verfollegen fir déi héich Präzisioun an Effizienz vun der Lithographiemaschinn ze garantéieren.
Zesummegefaasst zielt d'Applikatioun vun opteschen Komponenten am Feld vu Lithographiemaschinnen d'Performance an d'Produktiounseffizienz vu Lithographiemaschinnen ze verbesseren, an doduerch d'Entwécklung vun der Mikroelektronikfabrikatiounsindustrie z'ënnerstëtzen. Mat der kontinuéierlecher Entwécklung vun der Lithographietechnologie wäert d'Optimiséierung an d'Innovatioun vun opteschen Komponenten och méi grouss Potenzial fir d'Fabrikatioun vun nächste Generatioun Chips ubidden.
Fir méi Abléck an Expert Berodung, besicht eis Websäit ophttps://www.jiujonoptics.com/fir méi iwwer eis Produkter a Léisungen ze léieren.
Post Zäit: Jan-02-2025
