Material:B270i
Prozess:Duebel Flächen poléiert,
Eng Uewerfläch verchromt Beschichtete , Duebelflächen AR Beschichtung
Uewerfläch Qualitéit:20-10 am Muster Beräich
40-20 am baussenzege Beräich
Keng Pinholes an der Chrombeschichtung
Parallelismus:<30"
Chamfer:<0,3*45°
Chrombeschichtung:T<0,5% @ 420-680 nm
Linnen sinn transparent
Linn Dicke:0,005 mm
Linn Längt:8 mm ± 0,002
Linn Spalt: 0,1 mm± 0,002
Duebelfläch AR:T>99% @ 600-650 nm
Applikatioun:LED Muster Projektoren