Produiten
-
Chrom Beschichtete Präzisioun Schlittplack
Material:B270i
Prozess:Duebel Flächen poléiert,
Eng Uewerfläch verchromt Beschichtete ， Duebelflächen AR Beschichtung
Uewerfläch Qualitéit:20-10 am Muster Beräich
40-20 am baussenzege Beräich
Keng Pinholes an der Chrombeschichtung
Parallelismus:<30"
Chamfer:<0,3*45°
Chrombeschichtung:T<0,5% @ 420-680 nm
Linnen sinn transparent
Linn Dicke:0,005 mm
Linn Längt:8 mm ± 0,002
Linn Spalt: 0,1 mm± 0,002
Duebelfläch AR:T>99% @ 600-650 nm
Applikatioun:LED Muster Projektoren
-
ND Filter fir Kameraobjektiv op der Drone
Den ND-Filter gebonnen mat AR-Fënster a polariséierender Film. Dëst Produkt ass entwéckelt fir d'Art a Weis wéi Dir Biller a Videoen erfaasst ze revolutionéieren, a bitt eng oniwwertraff Kontroll iwwer d'Quantitéit u Liicht, déi an Ärer Kameralens erakënnt. Egal ob Dir e professionnelle Fotograf, Videograf oder einfach en Hobbyist sidd deen Dir sicht Äert Fotografiespill z'erhéijen, eise gebonne Filter ass dat perfekt Tool fir Är kreativ Visioun ze verbesseren.
-
1550nm Bandpassfilter fir LiDAR Rangefinder
Substrat:HWB850
Dimensiounstoleranz: -0,1 mm
Dicke Toleranz: ± 0,05 mm
Surface Flatness:3(1)@632.8nm
Uewerfläch Qualitéit: 60/40
Kanten:Buedem, 0,3 mm max. Voll Breet Schräg
Kloer Aperture: ≥90%
Parallelismus:<30"
Beschichtung: Bandpass Coating @ 1550nm
CWL: 1550 ± 5 nm
FWHM: 15 nm
T>90% @ 1550 nm
Blockwellelängt: T<0,01%@200-1850nm
AOI: 0° -
410nm Bandpass Filter fir Pestizid Rest Analyse
Substrat:B270
Dimensiounstoleranz: -0,1 mm
Dicke Toleranz: ±0,05 mm ép
Surface Flatness:1(0,5)@632.8nm
Uewerfläch Qualitéit: 40/20
Linn Breet:0,1 mm & 0,05 mm
Kanten:Buedem, 0,3 mm max. Voll Breet Schräg
Kloer Aperture: 90%
Parallelismus:<5"
Beschichtung:T＜0,5% @ 200-380 nm,
T＞80% @ 410±3 nm,.
FWHM＜6nm vun
T＜0,5% @ 425-510 nm
Mount:Jo
-
Beliichte Reticle fir Gewiererkikker
Substrat:B270 / N-BK7 / H-K9L / H-K51
Dimensiounstoleranz:-0,1 mm
Dicke Toleranz:± 0,05 mm
Surface Flatness:2(1)@632.8nm
Uewerfläch Qualitéit:20/10
Linn Breet:Minimum 0,003 mm
Kanten:Buedem, 0,3 mm max. Voll Breet Schräg
Kloer Aperture:90%
Parallelismus:<5"
Beschichtung:Héich optesch Dicht opak Chrom, Tabs <0,01% @ Visible Wellelängt
Transparent Beräich, AR: R<0,35% @ Visible Wellelängt
Prozess:Glas Ätscht a fëllt mat Natriumsilikat an Titandioxid -
Fused Silica Laser Schutzmoossnamen Fënster
Fused Silica Schutzfenster sinn speziell entworf Optik aus Fused Silica optescht Glas, bitt exzellente Transmissiounseigenschaften an de sichtbaren an no-Infraroutwellelängteberäicher. Héich resistent géint thermesch Schock a kapabel héich Laser Kraaftdichten ze widderstoen, dës Fënstere bidden e kriteschen Schutz fir Lasersystemer. Hir robusten Design garantéiert datt se intensiv thermesch a mechanesch Belaaschtunge kënne widderstoen ouni d'Integritéit vun de Komponenten ze kompromittéieren déi se schützen.
-
Präzisioun optesch Schlitz - Chrom op Glas
Substrat:B270
Dimensiounstoleranz:-0,1 mm
Dicke Toleranz:± 0,05 mm
Surface Flatness:3(1)@632.8nm
Uewerfläch Qualitéit:40/20
Linn Breet:0,1 mm & 0,05 mm
Kanten:Buedem, 0,3 mm max. Voll Breet Schräg
Kloer Aperture:90%
Parallelismus:<5"
Beschichtung:Héich optesch Dicht opak Chrom, Tabs <0,01% @ Visible Wellelängt -
Präzisioun Plano-konkave an duebel konkave Lënsen
Substrat:CDGM / SCHOTT
Dimensiounstoleranz:-0,05 mm
Dicke Toleranz:± 0,05 mm
Radius Toleranz:± 0,02 mm
Surface Flatness:1 (0,5) @ 632,8 nm
Uewerfläch Qualitéit:40/20
Kanten:Schutzbevel wéi néideg
Kloer Aperture:90%
Zentréieren:<3'
Beschichtung:Rabs<0,5%@Design Wellelängt -
Etapp Mikrometer Eechung Skala Gitter
Substrat:B270
Dimensiounstoleranz:-0,1 mm
Dicke Toleranz:± 0,05 mm
Surface Flatness:3(1)@632.8nm
Uewerfläch Qualitéit:40/20
Linn Breet:0,1 mm & 0,05 mm
Kanten:Buedem, 0,3 mm max. Voll Breet Schräg
Kloer Aperture:90%
Parallelismus:<5"
Beschichtung:Héich optesch Dicht opak Chrom, Tabs <0,01% @ Visible Wellelängt
Transparent Beräich, AR: R<0,35% @ Visible Wellelängt -
Laser Grad Plano-Konvex Lënsen
Substrat:UV Fused Silica
Dimensiounstoleranz:-0,1 mm
Dicke Toleranz:± 0,05 mm
Surface Flatness:1 (0,5) @ 632,8 nm
Uewerfläch Qualitéit:40/20
Kanten:Buedem, 0,3 mm max. Voll Breet Schräg
Kloer Aperture:90%
Zentréieren:<1'
Beschichtung:Rabs<0.25%@Design Wellelängt
Schued Schwell:532nm: 10J/cm²，10ns Puls
1064nm: 10J/cm²，10ns Puls -
Präzisioun Reticles - Chrome op Glas
Substrat:B270 /N-BK7 / H-K9L
Dimensiounstoleranz:-0,1 mm
Dicke Toleranz:± 0,05 mm
Surface Flatness:3(1)@632.8nm
Uewerfläch Qualitéit:20/10
Linn Breet:Minimum 0,003 mm
Kanten:Buedem, 0,3 mm max. Voll Breet Schräg
Kloer Aperture:90%
Parallelismus:<30"
Beschichtung:Single Layer MgF2, Ravg<1.5%@Design WellelängtLinn / Punkt / Figur: Cr oder Cr2O3
-
Aluminiumbeschichtung Spigel fir Splitlampe
Substrat: B270®
Dimensiounstoleranz:± 0,1 mm
Dicke Toleranz:± 0,1 mm
Surface Flatness:3 (1) @ 632,8 nm
Uewerfläch Qualitéit:60/40 oder besser
Kanten:Buedem a Schwaarz, 0,3 mm max. Voll Breet Schräg
Réck Uewerfläch:Buedem an Blacken
Kloer Aperture:90%
Parallelismus:<5"
Beschichtung:Schutz Aluminiumbeschichtung, R>90%@430-670nm, AOI=45°
